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GVC-2000T高真空磁控離子濺射儀

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更新時間：2022-11-28 17:27:12瀏覽次數(shù)：481次

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北京格微儀器有限公司

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產(chǎn)品簡介

描述全自動知識產(chǎn)品沒有熱損傷

詳細介紹

描述

全自動知識產(chǎn)品

沒有熱損傷，效率更高，顆粒度更細，更適合高分辨電鏡

應(yīng)用領(lǐng)域

設(shè)備配置與技術(shù)參數(shù)

名稱&型號	高真空磁控離子濺射儀GVC-2000T
真空系統(tǒng)	渦輪分子泵（進口）：德國萊寶90i （單磁懸浮分子泵，抽速為90L/s）旋片式真空泵：浙江飛越VRD-4 （抽速為 1 .1L/s）
真空測量	全量程復(fù)合真空規(guī)（進口）：1.0E5Pa-1E-4Pa
系統(tǒng)極限真空	≤5E-3Pa
濺射電源	磁控濺射電源,功率150W
可用靶材	所有金屬靶材，ITO靶材
濺射電壓	300-600V,根據(jù)選擇靶材、控制參數(shù)不同而變化
濺射電流	0-200mA連續(xù)可調(diào),步長5mA
濺射時間	0-9999s, 連續(xù)可調(diào)步長1s
操作界面	7英寸TFT彩色液晶觸摸屏,分辨率800×480
操作方式	一鍵操作
抽氣節(jié)拍	＜15分鐘
控制方式	只需設(shè)定濺射電流和時間即可，全自動控制具備預(yù)濺射擋板（預(yù)濺射時間可設(shè)定),全自動控制
保護功能	軟硬件互鎖、防止誤操作，具備電流、真空保護等
樣品臺直徑	φ125mm，可自轉(zhuǎn)，可自動手動控制，轉(zhuǎn)速4-40rpm可調(diào)
真空室	高硅硼玻璃，規(guī)格尺寸約φ200×130mm
電源供電	220V 50Hz 功率800W
尺寸&重量	重量 424（長) ×345（深) ×420mm（高）、 25 kg （凈重)
冷卻方式	內(nèi)部風冷
選配	樣品臺選擇、膜厚控制、溫度監(jiān)測等