1、概述
半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水,純水主要用作清洗用水 以及用來配制各種溶液、漿料。
純水水質已經成為影響電子元器件產品質量、生產成品率以及生產成本的重要因素之一,水質的要求也越來越高。集成電路的集成度越高,對水質的要求也越高,目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準,分別為18MΩ·cm、15 MΩ·cm、10 MΩ·cm、2 MΩ·cm、0.5 MΩ·cm,以區分不同水質。
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2、電子工業用超純水的制備工藝流程
電子工業用超純水制備的工藝流程有下列幾種:
(1)原水-多介質過濾器-活性炭過濾器-軟水器-精密過濾器-陽床-陰床-混合床-純水箱-純水泵-后置精密過濾器-用水點
(2)原水-多介質過濾器-活性炭過濾器――軟水器-原水箱-一級反滲透-中間水箱-二級反滲透-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-后置精密過濾器-用水點
(3)原水-多介質過濾器-活性炭過濾器-軟水器-原水箱-反滲透設備-中間水箱-EDI裝置-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-后置精密過濾器-用水點
(4)原水-多介質過濾器-活性炭過濾器-軟水器-原水箱-反滲透設備-中間水箱-EDI裝置-純水箱-純水泵-精制混床-精密過濾器-用水點