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上海人和科學儀器有限公司
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應用領域P4通過設置研磨碗自轉和公轉的轉速比率，可準確的模仿各種受力的情況。獲得的重復性的研磨過程，達到其它行星式研磨機達不到的效果。它是一種理想化的，適合各種機械活化..
應用領域
P 4通過設置研磨碗自轉和公轉的轉速比率，可準確的模仿各種受力的情況。獲得的重復性的研磨過程，達到其它行星式研磨機達不到的效果。它是一種理想化的，適合各種機械活化和機械和金的研磨機。主要應用于材料研究領域，以及任何需要一臺強有力的革新式的研磨機的領域。
工作原理
P 4研磨碗和支撐盤的旋轉速率可各自獨立的進行調節，同時，研磨碗自轉與支撐盤公轉的傳動比率可根據需要進行自由設置。當研磨球在研磨碗內進行運動時，球的運動軌道依賴于旋轉速率，撞擊力和撞擊角度取決于旋轉速率和傳動比率。通過改變旋轉速率和傳動比率，便可產生出不同的高能摩擦力和撞擊力，以獲得不同效果的研磨過程。
設計特點
自由選擇控制研磨碗和支撐盤的旋轉速率和傳動比率，可以無限制改變的研磨條件
通過RS323界面，采用專業的操作軟件實現對研磨時間、間歇時間以及循環模式的控制
可進行反方向旋轉，可通過調整旋轉速率進行超負荷保護
強通風的研磨室可確保研磨樣品的充分冷卻
薄膜保護的鍵盤，人性化的友好界面設置
優點
可實現最終顆粒大小<<1μm的超細粉末研磨
研磨碗自轉和公轉轉速的傳動比率任意可調，可模仿各種球磨機在不同研磨參數下的研磨過程
可充入惰性氣體進行研磨
附件
GTM氣體壓力和溫度測量系統
GTM系統可將此研磨儀轉化成為一個分析測量系統，它是的一個可在研磨過程中持續的監測氣體溫度和壓力變化的系統。通過無線發射和接受器可直接將數據傳輸到計算機中，以Excel表格和圖形的形式顯示出來。
充入惰性氣體的研磨
當使用特殊的研磨碗蓋子時，樣品便可在惰性氣體保護下進行研磨。這個具有快速通風的排入和排出閥門的蓋子，可以和專門為充入惰性氣體研磨而設計的附加的內鎖系統同時使用，以實現對研磨碗的傳送和手套箱的操作。
研磨碗和研磨球
共有9種不同材質研磨碗和研磨球的裝置可供選擇，包括瑪瑙，氮化硅，氧化鋁（99.7 %），氧化鋁（85 – 90 %），氧化鋯，不銹鋼，普通鋼，碳化鎢，包裹塑料的不銹鋼。
共有6種體積的研磨碗可供選擇，包括12ml，25 ml，45 ml，80ml，250ml，500ml。
共有7種直徑的研磨球可供選擇，包括5 mm，10mm，12mm，15mm，20 mm，30 mm，40mm。
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