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上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司


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塑料高分子材料研磨分散機(jī)

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產(chǎn)品型號(hào)CMD2000

品       牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地上海市

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更新時(shí)間:2024-01-28 15:44:37瀏覽次數(shù):137次

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

塑料高分子材料研磨分散機(jī),聚砜類(lèi)塑料塑料高分子材料研磨分散機(jī)有一定輸送能力,對(duì)高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;

詳細(xì)介紹

塑料高分子材料研磨分散機(jī),聚砜類(lèi)塑料塑料高分子材料研磨分散機(jī),聚酰亞胺類(lèi)高分子材料研磨分散機(jī),聚苯乙烯類(lèi)高分子材料研磨分散機(jī),聚酯類(lèi)高分子材料研磨分散機(jī)

塑料以合成或天然高聚物為基本成分,配以一定的高分子助劑(如填料、增塑劑、穩(wěn)定劑、著色劑等),經(jīng)加工塑化成型,并在常溫下保持其形狀不變的材料,稱為塑料。

塑料有許多不同的分類(lèi),常用的是按材料的受熱行為可分為熱塑性塑料和熱固性塑料,其中熱塑性塑料占塑料總量的80%。按樹(shù)脂的化學(xué)結(jié)構(gòu)有聚烯烴類(lèi)、聚苯乙烯類(lèi)、丙烯酸類(lèi)、聚酰胺類(lèi)、聚酯類(lèi)、聚砜類(lèi)、聚酰亞胺類(lèi)等。按塑料的使用功能分,把產(chǎn)量大、價(jià)格便宜、原料來(lái)源豐富、應(yīng)用面廣的稱為通用塑料,一般有聚乙烯、聚丙稀、聚氯乙烯、聚苯乙烯、酚醛和氨基塑料,占塑料總量的80%,其力學(xué)性能、熱性能都比較差,主要作為非結(jié)構(gòu)材料使用。工程塑料一般是指可以作為結(jié)構(gòu)材料使用,具有優(yōu)異的力學(xué)性能、熱性能、尺寸穩(wěn)定性或能滿足特殊要求的某些塑料如聚四氟乙烯、聚酰胺、聚甲醛等。當(dāng)然這兩者有時(shí)難以有的界限,如某些通用塑料如聚丙稀、聚苯乙烯經(jīng)改性之后也可以作為結(jié)構(gòu)材料使用。

塑料根據(jù)組分?jǐn)?shù)目又可分為單一組分和多組分塑料。單組分塑料基本是由高聚物組成,典型的是聚四氟乙烯,不加任何助劑。大多數(shù)塑料是多組分體系,除高聚物這一基本成分外,還加入添加劑(高分子助劑),助劑能改善材料的加工性能、使用性能以及降低成本。主要的助劑有填料和增強(qiáng)劑、增塑劑、穩(wěn)定劑、阻燃劑、發(fā)泡劑等。

塑料高分子材料研磨分散機(jī),聚砜類(lèi)塑料塑料高分子材料研磨分散機(jī),聚酰亞胺類(lèi)高分子材料研磨分散機(jī),聚苯乙烯類(lèi)高分子材料研磨分散機(jī),聚酯類(lèi)高分子材料研磨分散機(jī)

上海依肯研發(fā)的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。是將IKN/依肯膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,在原來(lái)CM2000系列研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。在膠體磨的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級(jí)模塊,加入了一級(jí)分散盤(pán)。可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機(jī)可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm,是目前普通設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

 

 

CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

CMD2000研磨分散機(jī)有一定輸送能力,對(duì)高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì),可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

 

研磨分散機(jī)的優(yōu)勢(shì):

更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計(jì)理念,將先x的技術(shù)與創(chuàng)x的思維有效融合,并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中,為設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行提供了保證.

新結(jié)構(gòu) 通過(guò)梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細(xì)度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力,纖維濕法研磨破碎可達(dá)400目.

更可靠 采用整體式機(jī)械密封,zui大程度上解決了高速運(yùn)轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問(wèn)題,安裝與更換方便快捷.

新技術(shù) 采用先x的受控切割技術(shù),將纖維類(lèi)物料粉碎細(xì)度控制在設(shè)定范圍之內(nèi),滿足生產(chǎn)中的粗、細(xì)及超細(xì)濕法粉碎的要求.

 

研磨分散機(jī)的特點(diǎn):

1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨

,聚酰亞胺類(lèi)高分子材料研磨分散機(jī),聚苯乙烯類(lèi)高分子材料研磨分散機(jī),聚酯類(lèi)高分子材料研磨分散機(jī)

2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

設(shè)備核心參數(shù):

設(shè)備等級(jí):化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車(chē)
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

 

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

型號(hào)

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

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