JK-CH600190-XRD冷熱臺 JK-CH600190-XRD冷熱臺   JK-XRD原位冷熱臺是一種安裝在X-射線衍射儀上研究樣品變溫X-射線衍射的附件。產品采用液氮致冷、電阻加熱的方式,提供-190~600℃(選型)或RT~1000℃(選型)溫度范圍內的氣氛/真空測試環境。適合于粉末、片材樣品在變溫下進行X-射線結構研究,適配現有各種X-射線衍射儀(布魯克、賽默飛、理學等)。 產品需要與溫度控制器、致冷控制器(選配)配套使用,配套的上位機溫控軟件方便進行溫度設置及采集,提供的Labview Vis方便客戶進行定制化編程。 產品特點: 溫度范圍-190~600℃(選型)/RT~1000℃(選型) 溫度穩定性±0.1℃(<600℃)±1℃(>600℃) 衍射角0~164° X射線視窗Kapton膜 支持反射/透射模式 密腔室設計,可升級真空腔室(10^(-3) mBar) 可更換上蓋,作為普通冷熱臺使用 可調節高度,滿足不同厚度樣品測試更換上蓋,可用作光學冷熱臺,實現一機多用 詳細參數一覽表: XRD原位冷熱臺 | JK-CH600190XV | JK-H1200XV | 溫控模塊 | 冷熱方式 | 液氮致冷,電阻加熱 | 電阻加熱 | 溫控范圍 | -190~600℃ * | RT~1200℃ * | 溫度穩定性 | ±0.1℃(<600℃),±1℃(>600℃)* | 溫度分辨率 | 0.1℃ | 升降溫速率 | 0~30℃/min(可定點 / 程序段控溫) | 溫控方式 | PID | 溫度傳感器 | PT100 | 熱電偶 | 光學特性 | 光路 | 反射 * | X射線透射膜 | Kapton膜 | 結構特性 | 樣品臺尺寸 | 23×23mm * | 12x12mm * | 樣品臺材質 | 銀質 * | 陶瓷 * | 外形尺寸 | 100×100×73mm * | 腔室 | 真空 | 外殼冷卻 | 循環水 | 基本配置 | XRD原位冷熱臺x1、溫度控制器x1、致冷控制器x1(低溫配置)、液氮罐x1(低溫配置)、定制支架x1、溫控軟件x1、循環水系統x1、連接管路若干 | 選配 | 電腦主機/定制溫控軟件/定制光學蓋板 | 備注 | 以上均為默認參數 * 為可定制項 | 其他可選型號 | CH400-100-X(-100~400℃) | 產品應用: 搭配理學X射線衍射儀 ↓ 搭配賽默飛X射線衍射儀 ↓ 搭配布魯克X射線衍射儀 ↓ |