彈出裝置可以根據固定的吸煙次數也可以利用傳感器感應執行彈出任務 。
Cultex體外細胞暴露模塊RFS
Cultex RFS模塊依據Transwell膜原理，**了氣-液界面暴露技術，*新的輻射流結構設計讓暴露系統具有*佳的穩定性和重復性。目前Cultex體外暴露染毒模塊已經成為體外暴露實驗*的*佳工具。目前有培養皿暴露模塊（用于Ames Assay艾姆斯試驗）、基礎模塊（用于體外細胞直接暴露）、輻射流模塊RFS（特別是體外的顆粒物暴露）四大類產品，都可以可用于香煙煙霧細胞暴露染毒系統。其中，除RFS模塊外，其他三種產品屬于cultex**代產品，由于其穩定性和重復性不夠穩定，目前已經被Cultex公司淘汰，并被更優良的RFS系統替代。
功能概述 ：
Cultex RFS細胞暴露模塊用于，在暴露染毒過程中需要持續提供培養基的實驗。每個半透膜（Transwell insert）的培養基都通過培養基泵單獨供應。可以通過多通道培養基泵控制培養腔室內培養基量。這樣就有效避免了實驗過程中培養皿內培養基干固，從而影響實驗進行。
細胞暴露模塊由細胞小室（transwell）暴露腔以及頂部氣溶膠供應系統構成。培養基供應方式是根據重力學原理或使用注射器對三個培養腔室同時、統一供應。
細胞體外暴露模塊**體外暴露染毒一個時代的輻射流暴露系統，其輻射氣流分布，更利于氣體的均勻、高效分配。系統由底部的培養暴露部分和頂部氣溶膠供應模塊構成，兩者通過鎖定裝置整成自由架式結構。鎖定后系統具有獨立的氣溶膠供應，水浴溫控系統。如果需要，模塊可以通過靜電裝置，高效*地完成顆粒的靜電沉積。系統適用于香煙煙霧細胞暴露。
氣溶膠動態稀釋單元
使用的雙噴射系統混合氣溶膠與清潔空氣，通過調節清潔空氣的流量控制氣溶膠的濃度，有效動態稀釋氣溶膠。可對實驗物質濃度大比例稀釋的雙噴射稀釋系統保證良好的混合結果，不銹鋼材質減少了表面沉積現象。溶膠稀釋系統由氣溶膠通道和2個空氣噴射口組成，稀釋后的氣溶膠形成恒流氣體，被導入體外暴露模塊進行相應暴露實驗。
樣品在線分析與控制系統
通過在線氣體檢測分析技術，偏振光光度計進行在線質量測量，實驗過程中，能夠在極低的流量（e.g.5ml/min）時，無損檢測顆粒物質量。
全自動流量控制系統
流量在線監測控制對于暴露實驗來說，是非常重要的。細胞上面保持恒定的氣溶膠流量，對細胞生存和暴露實驗都是至關重要的。系統通常使用質量流量控制器（MFC）自動系統流量。Cultex系統采用計算機全自動控制，實驗前僅僅需要設置好需要的參數即可。用戶可根據需要進行流量設定，MFC自動地將流量恒定在設定值上，即使系統壓力有波動或環境溫度有變化，也不會使其偏離設定值。
系統溫度控制與濕度控制
培養暴露單元需要高精度恒溫控制，通常我們使用水浴循環系統為細胞培養提供恒溫條件，-25 to 85oC溫控范圍；簡易的三鍵式操作按鈕與LED顯示面板；故障自動報警功能，且自動顯示故障。
對于體外細胞進行相對長時間的暴露，清潔空氣的濕度控制是必須的，需要提供一個恒定水平的濕度環境，并可調節。濕度*大值：99.5% RH，可調；*大壓力：1.1bar,安全閥控制。
