摘要
浸沒式光刻機是應用于集成電路制造的關鍵設備,其浸沒系統的溫度是影響其性能指標的關鍵因素之一。浸液溫度控制的性能主要由浸液系統的結構與浸液系統的控制算法決定。提出了浸沒式光學系統高精度溫度探頭控制溫度和調節冷卻水的流量控制溫度的穩定性的溫控原理。與通過直接測溫方式控制浸液溫度的原理相比有效的利用了工廠的冷卻水系統,無需制冷加熱裝置,降低了用戶使用成本。且獲得更高的溫度穩定性和抗ganrao力。
浸沒式光學系統高精度溫度探頭介紹
智測在推出創新的可在現場使用的浸沒式光學系統高精度溫度探頭之后,又成功開發了功能更多,使用更方便的浸沒式光學系統高精度溫度探頭,將探頭的產品形成不同系列以滿足各種用戶的不同應用。在幾乎沒有降低任何計量性能之上,將高性能延伸到了工業過程環境。在選裝了“過程"選件之后,現場計量時無需再攜帶任何其它工具,一臺現場浸沒式光學系統高精度溫度探頭足以應付各種計量之需。這也就意味著將實驗實全部搬到了現場。

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在所需的溫度范圍內使用,它可方便的設置并精確產生所需的溫度。它體積小,加熱快速,溫控穩定,無污染等特點,可將溫度傳感器與儀表進行整體校驗,因此它易于攜帶,使用方便,易于快速可靠地溫度校準,廣泛應用于機械,船舶,化工,食品,電力,藥品等行業。