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萊特萊德（北京）純水設備技術股份有限公司
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電子超純水設備 EDI技術
電子超純水設備采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理等方法，將水中的導電介質去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度。
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芯片的制造過程很復雜，從設計、生產再到封裝和測試，每一步都非常重要。在制造環節中要解決的問題有耗材、晶圓、光刻膠、超純水、各種離子等。芯片制造的關鍵設備之一是電子電子超純水設備，可用于生產芯片清洗的超純水，而超純水的質量直接影響到芯片的質量。
萊特萊德電子超純水設備采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理等方法，將水中的導電介質去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度。超純水系統設備的脫鹽核心部件為反滲透膜組件、EDI系統和拋光混床，超純水系統設備通常由預處理部分，反滲透主機部分，后處理部分共同組成。
電子超純水設備具有抗污染能力強、節能環保、產水水質穩定、脫鹽率高、系統內無死水等優勢，出水水質符合美國ASTMD5127電子及半導體業用純水水質TypeE-1.2，高于中國國家電子級超純水標準GBT11446.1-1997EW-Ⅰ標準。
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