Langer EMV-Technik 抗擾度開發(fā)系統(tǒng)介紹
朗格Langer EMV-Technik處于EMC領域的研究，開發(fā)和生產(chǎn)的前沿。通過EMC實驗研討會和EMC研討會，我們?yōu)榭蛻籼峁┝巳娴闹R。
我們的 干擾發(fā)射 和 抗干擾性 EMC測量技術以及IC測試系統(tǒng)主要用于開發(fā)階段，并且在范圍內(nèi)都有需求。

 Langer EMV-Technik 抗擾度開發(fā)系統(tǒng)介紹
 

朗格Langer EMV-Technik處于EMC領域的研究，開發(fā)和生產(chǎn)的前沿。通過EMC實驗研討會和EMC研討會，我們?yōu)榭蛻籼峁┝巳娴闹R。

 

我們的 干擾發(fā)射 和 抗干擾性 EMC測量技術以及IC測試系統(tǒng)主要用于開發(fā)階段，并且在范圍內(nèi)都有需求。

E1是一組EMC工具，用于在開發(fā)階段抑制印刷電路板中的EMI。開發(fā)人員可以使用E1集快速識別突發(fā)和ESD干擾的原因。這使開發(fā)人員可以設計適當?shù)拇胧﹣斫鉀Q干擾的原因。它也可以用來測試所采取措施的有效性。E1測試裝置很小，可輕松安裝在開發(fā)人員的桌子上。E1集用戶手冊介紹了EMC機制，并詳細描述了用于抑制印刷電路板中干擾的基本測量策略。E1集包括一個發(fā)生器，用于產(chǎn)生突發(fā)和ESD干擾。

E1套裝，抗擾度開發(fā)系統(tǒng)
 

供貨范圍：1個SGZ 21、1個S21、1個BS 02、1個BS 04DB，
 

1個BS 05D，1個BS 05DU，1個ES 00、1個ES 01、1個ES 02，
 

1個ES 05D，1個ES 08D，1個MS 02、1個E1 acc，1個NT FRI EU，
 

1x E1表殼，1x E1 m

供貨范圍

 

·         1倍SGZ 21，脈沖發(fā)生器

 

·         1倍S21，光學傳感器（10 Mbps）

·         1倍BS 02，磁場源

 

·         1倍BS 04DB，磁場源

 

·         1倍BS 05D，磁場源

 

·         1倍BS 05DU，磁場源

 

·         1倍ES 00，電場源

 

·         1倍ES 01，電場源

 

·         1倍ES 02，電場源

 

·         1倍ES 05D，電場源

 

·         1倍ES 08D，電場源

 

·         1倍MS 02，磁場探頭

 

·         1倍E1 acc，配件

 

·         1倍NT FRI EU，電源裝置

 

·         1倍E1案例，系統(tǒng)案例

 

·         1倍E1 m，E1設置用戶手冊

 

主要型號：

 

德國LANGER EMV-Technik BD06B

 

德國LANGER EMV-Technik BD01B

 

德國LANGER EMV-Technik BD01E

 

德國LANGER EMV-Technik BD11

 

德國LANGER EMV-Technik MFA 01

 

德國LANGER EMV-Technik XF 1

 

德國LANGER EMV-Technik SX

 

德國LANGER EMV-Technik MFA01

 

德國LANGER EMV-Technik MFA02

 

德國LANGER EMV-Technik SX1

 

德國LANGER EMV-Technik XF1

 

德國LANGER EMV-Technik XF

 

德國LANGER EMV-Technik RF1

 

德國LANGER EMV-Technik RF2

 

德國LANGER EMV-Technik RF3

 

德國LANGER EMV-Technik RF4-E

 

德國LANGER EMV-Technik RF-E

 

德國LANGER EMV-Technik LF1

 

德國LANGER EMV-Technik LF

 

德國LANGER EMV-Technik PA203

 

德國LANGER EMV-Technik PA303

 

德國LANGER EMV-Technik RFS

 

德國LANGER EMV-Technik VM251


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