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高選擇性分離分子印跡技術(shù)的聚合過程可分為三步
閱讀：41 發(fā)布時(shí)間：2025-1-13分子印跡技術(shù)是20世紀(jì)末出現(xiàn)的一種高選擇性分離技術(shù)，這種技術(shù)是選用能與印跡分子產(chǎn)生特定相互作用的功能性單體，在印跡分子周圍與交聯(lián)劑進(jìn)行聚合，形成三位交聯(lián)的聚合物網(wǎng)絡(luò)，然后，通過合適的溶劑除去印跡分子，在聚合物網(wǎng)絡(luò)中形成空間和化學(xué)功能與印跡分子互補(bǔ)的空穴。
整個(gè)聚合過程可分為三步：印跡、聚合、去除印跡分子。MIT的基本思想是源于人們對(duì)抗體-抗原專一性的認(rèn)識(shí)，即一種抗體只能針對(duì)一種抗原，而MIT則通過人工方法合成與目標(biāo)分子耦合的大分子化合物，由于MIT模仿了生物界的抗原-抗體作用原理，使制備的材料有著的選擇性，因而受到全球眾多研究人員的重視，很快在許多相關(guān)領(lǐng)域（如手性拆分、固相萃取、人工酶學(xué)、化學(xué)或生物傳感器、不對(duì)稱催化等方面）得到了廣泛的應(yīng)用。
以MIT制備出來的他子印跡聚合物不僅是具有特定的選擇性和高親和性的他子識(shí)別材料，而且還具有很好的物理化學(xué)穩(wěn)定性，如能抵抗很強(qiáng)的機(jī)械作用力、能耐高溫高壓、能抵抗酸堿、高濃度的鹽溶液及有機(jī)溶洞劑作用，使用壽命長，能多次重復(fù)使用而不損失
分子記憶效應(yīng)。文獻(xiàn)報(bào)道，他子印跡聚合物反復(fù)使用100次之后，其印跡能力也未發(fā)生衰減，保存8個(gè)月之后其性能不發(fā)生改變。另外，與目標(biāo)分子相比，MIT制備方法簡單，價(jià)格低廉。